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GB/T1557-2006 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

标准编号:GB/T1557-2006 整理时间:2006-07-18 浏览次数:37
资料名称: GB/T1557-2006 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
标准类别:
语  言: 简体中文
授权形式: 免费下载
标准状态:
作废日期:
发布日期: 2006-07-18◎
实施日期: 2006-11-01◎
首发日期:
复审日期:
出版日期: 2006-11-01◎
标准编号: GB/T 1557-2006
标准名称: 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
英文名称: The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption(仅供参考)
标准简介: GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 国家标准(GB) GB/T1557-2006 本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶中的间隙氧含量的方法。 本标准适用于室外温电阻率大于0.1Ω?cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5Ω?cm中间的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。 本标准测量氧含量的有效范围从1×1016at?cm-3到硅中间隙氧的最大固熔度。 压缩包解压密码:www.51zbz.com
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替代情况: 替代GB/T 14143-1993;GB/T 1557-1989(仅供参考)
采标情况: ASTM F1188-2000 MOD(仅供参考)
发布部门: 中华人民共和国质量监督检验检疫总局和国家标准化管理委员会(仅供参考)
提出单位: (仅供参考)
归口单位: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
主管部门: 中国有色金属工业协会(仅供参考)
起草单位: 峨眉半导体材料厂(仅供参考)
起 草 人: (仅供参考)
出 版 社:

中国标准出版社  (仅供参考)

页  数: 7页(仅供参考)
书  号: (仅供参考)
下载次数: 22次
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