| 资料名称： | GB/T18682-2002 GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 |
| 标准类别： |
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 授权形式： | 免费下载 | ||
| 标准状态： | ◎ | ||
| 作废日期： | ◎ | ||
| 发布日期： | 2002-03-10◎ | ||
| 实施日期： | 2002-08-01◎ | ||
| 首发日期： | 2002-03-10◎ | ||
| 复审日期： | 2004-10-14◎ | ||
| 出版日期： | 2002-08-01◎ |
| 标准编号： | GB/T 18682-2002 | |
| 标准名称： | 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 | |
| 英文名称： | Specifications of physical vapour deposition TiN films（仅供参考） | |
| 标准简介： | GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 国家标准(GB) GB/T18682-2002 本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层（TiC，TiCN，TiAlN等）。 压缩包解压密码：www.51zbz.com | |
| 推荐链接： | 载入中 | |
| 替代情况： | （仅供参考） | |
| 采标情况： | （仅供参考） | |
| 发布部门： | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局（仅供参考） | |
| 提出单位： | 中国机械工业联合会（仅供参考） | |
| 归口单位： | 全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会（仅供参考） | |
| 主管部门： | 中国机械工业联合会（仅供参考） | |
| 起草单位： | 武汉材料保护研究所（仅供参考） | |
| 起 草 人： | 凌国伟、李健、倪瀚、黄济群（仅供参考） | |
| 出 版 社： | 中国标准出版社（仅供参考） |
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| 页 数： | 平装16开， 页数：（仅供参考） | |
| 书 号： | 155066.1-28611（仅供参考） | |
| 下载次数： | 5次 | |
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